Специалисты компании Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) в сотрудничестве с Национальным университетом Тайваня (NTU) и Массачусетским технологическим институтом (MIT) провели ряд исследований с целью найти перспективные способы уменьшения чипов. Как известно, сейчас при производстве электроники используются 5-нм технологический процесс, наиболее передовой и отлаженный. Дальнейшая миниатюризация связана с рядом проблем.

Изыскания ученых показали, что если вместо кремния использовать плёнки висмута фактически одноатомной толщины, то можно достигнуть существенного уменьшения сопротивления с одновременным ростом силы тока в полупроводниковых системах, масштаб которых сравним с физическим пределом размеров микросхем, когда на них начинают влиять квантовые эффекты. 

Новое исследование открывает путь к производству чипов по 1-нм технологическому процессу. Правда пока неясно, когда фабрики смогут освоить новые производственные нормы.