Немецкие инженеры сообщили о разработке нового устройства для более эффективной электростатической очистки поверхностей материалов, что может быть очень полезным в промышленности и производстве микроэлектроники. Исследователи из Института Фраунгофера в немецком Штутгарте рассказывают, что их разработка может удалять частицы, толщина которых меньше толщины человеческого волоса.

На сегодня в производствах, требующих электростатической очистки, используются специальные виды пылесосов, который направляют тонкий поток воздуха на поверхность, а с другого края засасывают его вместе с частицами. Тем не менее, эти установки не эффективны против частиц, толщина которых менее 20 микрометров.

В настоящее время исследователи из фраунгоферовского института говорят о создании установки, способной удалять куда более мелкие частицы.

В основе принципа работы лежит технология зарядки самих частиц положительными ионами, позже рядом с ним проносится отрицательно заряженный электрод, в результате чего производит "контролируемое удаление" частиц с производственных поверхностей. Для еще большей эффективности после обработки поверхности можно воздействовать на них подъемной силой в виде воздушного потока, уносящего редкие оставшиеся частицы в небольшой пылеуловитель.

Исследователи говорят, что уже к концу 2011 году новая установка будет работать в ряде микроэлектронных заводов.

По материалам: CyberSecurity.ru